“离子注入加工平台”是由政府出资、济南晶正电子科技有限公司负责管理的项目，共享性服务内容包括为国内外半导体、微电子、新材料企业及科研机构提供完善的离子注入加工及配套的半导体服务。项目的配套设施及辅助设施包括生产车间、供配电站、物流库房、产品仓库、研发中心、检测中心等。离子注入加工平台一旦建成，可迅速解决山东省内及周边半导体行业对于离子注入工艺的需求，缩短这些半导体企业产品的生产周期，促进山东半导体产业的发展，对中小型的半导体、微电子和新材料企业提供强力的支撑，并进一步辐射全国，建成国内外知名的离子注入加工平台。

　　济南晶正电子科技有限公司采用离子注入工艺生产出完整的3英寸铌酸锂单晶薄膜产品, 在世界上处于领先地位，目前正研制6英寸纳米级铌酸锂单晶薄膜，离子注入加工平台可以极大的缩短研发周期，从而使我国在本行业保持领先地位。离子注入加工平台项目还可以带动其他新材料工业的发展，如金属材料改性、材料的表面强化处理等，可以广泛应用于陶瓷、玻璃、复合物、聚合物、矿物以及植物种子改良上。离子注入平台同时与山东大学、省科学院等科研机构开展联合培养，作为高层次人才的实习基地，培养离子注入高端科技人才，在产学研结合等方面做出贡献。

　　离子注入基本原理是离子在加速器的加速、聚焦作用下形成高能量的离子束轰击基底材料，进而实现在基底材料中注入离子的目的，它是当代大规模集成电路制造中必不可少的工艺手段之一。离子注入机是半导体工业的核心设备，其性能直接决定了掺杂工艺的准确性、重复性和产能。由于离子注入机造价昂贵 ，大多数中小型的半导体公司很难负担，最常用的解决办法是各个单位共用一台离子注入机，即建设离子注入加工平台。

　　目前国内“离子注入加工平台”主要是科研型的注入平台，主要为大专院校和科研院所提供离子注入服务。随着半导体产业在国内的迅猛发展，众多的半导体公司对离子注入有了迫切的需求，主要要求是注入尺寸大、产能高、自动化程度高、重复性好。而科研型注入平台很难满足以上要求，因此建设一个面向产业化的半导体公司和科研院所的高水平、自动化程度较高的 “离子注入加工平台”是十分必要而且有重要的意义。构建离子注入加工平台，可以充分利用国外成熟技术来提高我们的技术起点，把工艺与设备有机结合，突破技术难关，设计并开发出具有自主知识产权的注入工艺，进而提高我国离子注入技术水平，为半导体、微电子、新材料等行业产业化发展提供重要的硬件和技术支撑。(本报记者)